倪教授也在考慮下一步怎麼走。

    現在的光刻機，是採用準分子雷射無熱效應，是方向性強、波長純度高、輸出功率大的脈衝雷射，光子能量波長範圍為157到353納米，可以將晶片製程繼續往下推進。

    但當摩爾定律往前發展，現在的光波波長將無法滿足需求。

    李雲海問倪教授，頂多再有十年，現在的光波波長就不夠用，光刻機下一步發展的方向在哪裡？

    這個問題實在太大，即便是倪教授也解決不了。

    其實上這個難題在十年之後，難倒了全球的科學家。

    直到邰灣的一個工程師提出來浸沒式方法，才突破了摩爾定律，給整個晶片界帶來了21世紀的曙光。

    他提出了利用水來降低光的波長。光線照到水中會發生折射，那麼，在光刻機的透鏡和晶圓之間加一層薄薄的一毫米厚的水，水對193納米雷射的折射率是1.44，那麼不就可以得到波長約為134納米的光線了嗎？成功的繞過了157納米波長的問題。

    李雲海知道這個故事，是因為這個故事實在太著名。

    但凡關注過光刻機發展史的人，都聽過這個故事。

    而尼康的沒落，也和這個故事有關。

    尼康和佳能都覺得浸沒法並不是最好的方法，他們認為，自己在157納米波長光刻機上的巨額投資將成為浪費，因此反對浸沒式光刻機的研發計劃。

    這就是光刻機歷史上最著名的乾濕之爭。

    後來的結果大家都知道了。

    唯一一家堅持水浸法研究的阿斯麥成功了，成果斐然，從廠逐漸崛起，成為行業的領軍者，引領了未來幾十年間的光刻機市場。而尼康和佳能等公司，卻越陷越深，最終遺憾的錯失了最重要的幾十年市場。

    東洋製造也在同時代黯然落幕。

    雖然尼康後來推出了

    李雲海大概

『加入書籤，方便閱讀』